■体裁:A4判,373ページ
■発刊:2011/5
■ISBNコード:978-4-7813-0306-2
■シーエムシー出版

★ ナノインプリント技術を61(一部本書独自の呼称)に分類,解析!
★ 基礎技術から応用まで3,577件の特許公報を精査,出願人(法人,個人)数は国内310,外国320!
★ 大学・研究所出願,特許公報一覧,登録番号対照,主要パテントファミリーなど,豊富なデータを満載!

【監修】
(編集)(株)シーエムシー出版/(制作協力)クレストン

【著者】
小池康博　　　慶應義塾大学理工学部・大学院理工学研究科　教授;慶應義塾大学フォトニクス・リサーチ・インスティテュート　所長
平坂雅男　　　帝人(株)　構造解析研究所　所長
小松正明　　　日本ゼオン(株)　総合開発センター　高機能樹脂研究所　チームリーダー
荒川公平　　　日本ゼオン(株)　取締役常務執行役員
小池康太郎　　慶應義塾大学フォトニクス・リサーチ・インスティテュート　特任助教;Visiting Research Scholar,Polytechnic Institute of New York University
岡本善之　　　Professor, Polymer Research Institute, Polytechnic Institute of New York University
田中爾文　　　旭硝子(株)　AGC電子カンパニー　事業企画室　POF事業推進グループ　主席
谷口輝行　　　積水化学工業(株)　京都研究所　課長
吉田博次　　　積水化学工業(株)　京都研究所　部長
中村一己　　　三菱レイヨン(株)　機能樹脂事業部　光デバイス部　部長
堤　直人　　　京都工芸繊維大学　大学院工芸科学研究科　高分子機能工学部門　教授
杉原興浩　　　東北大学　多元物質科学研究所　准教授
各務　学　　　(株)豊田中央研究所　情報エレクトロニクス部　光応用研究室　室長
伊縫幸利　　　豊田合成(株)　生産技術開発センター　主担当員
長村利彦　　　北九州工業高等専門学校　物質化学工学科　特命教授
白田耕藏　　　電気通信大学　情報理工学研究科　先進理工学専攻　教授
都丸　暁　　　NTTアドバンステクノロジ(株)　先端プロダクツ事業本部　光プロダクツビジネスユニット　主幹担当部長
石原信之　　　(株)石原産業　代表取締役
多加谷明広　　慶應義塾大学大学院理工学研究科　特任教授;慶應義塾大学フォトニクス・リサーチ・インスティテュート　副所長
小野光正　　　帝人デュポンフィルム(株)　フィルム技術研究所　フィルム研究室
串田　尚　　　帝人(株)　融合技術研究所　第二研究室
岡田博司　　　日東樹脂工業(株)　事業推進統括本部　部長
深石　圭　　　(株)有沢製作所　3D製造技術部　3D製造技術G
田實佳郎　　　関西大学　システム理工学部　電気電子情報工学科　教授,副学部長
築地光雄　　　ユニオプト(株)　取締役統括部長
尼子雅章　　　東レ・ダウコーニング(株)　エレクトロニクス開発部　主任研究員
植月洋平　　　ナガセケムテックス(株)　研究開発本部　研究開発第二部　第一チーム
竹添秀男　　　東京工業大学　大学院理工学研究科　有機・高分子物質専攻　教授
小西玄一　　　東京工業大学　大学院理工学研究科　有機・高分子物質専攻　准教授
佐々木健夫　　東京理科大学　理学部　第二部化学科　教授
小林駿介　　　山口東京理科大学　工学部　教授,液晶研究所　所長
望月昭宏　　　ナノロア(株)　取締役社長
網盛一郎　　　富士フイルム(株)　産業機材事業部　主任技師
増田善友　　　(株)ブリヂストン　新事業開発本部　電子ペーパー開発技術部　ユニットリーダー
小林範久　　　千葉大学　大学院融合科学研究科　教授
川口正剛　　　山形大学　大学院理工学研究科　機能高分子工学分野　教授
武田　力　　　山形大学　大学院理工学研究科　機能高分子工学専攻
鳴海　敦　　　山形大学　大学院理工学研究科　機能高分子工学分野　准教授
茨田大輔　　　宇都宮大学　大学院工学研究科　助教
福田隆史　　　(独)産業技術総合研究所　電子光技術研究部門　主任研究員
志村　努　　　東京大学　生産技術研究所　教授
池田順一　　　共栄社化学(株)　奈良研究所　新規事業推進室　部長
尾﨑雅則　　　大阪大学　大学院工学研究科　電気電子情報工学専攻　教授
藤井彰彦　　　大阪大学　大学院工学研究科　電気電子情報工学専攻　准教授
太和田善久　　(株)カネカ　RD推進部　シニアフェロー;大阪大学　ナノサイエンス・デザイン教育研究センター　特任教授
太野垣健　　　京都大学　化学研究所　准教授
福田光弘　　　コニカミノルタオプト(株)　技術開発本部　技術開発センター　基盤技術部　アシスタントマネージャー

【刊行にあたって】
　半導体デバイスや記録媒体,光学デバイスから電子ディスプレイ,μTAS・MEMSまで,微細パターン形成技術は基幹的な工業技術となっている。より微細でより簡易なパターン形成加工技術の確立が求められてきた。
　「ナノインプリントリソグラフィー」というナノサイズの微細凹凸パターン形成技術が,S.Y.Chouらにより提唱されたのは,1996年である。同技術はプレス装置を用いた従来のホットエンボス技術を,リソグラフィーに応用したものである。今までの代表的なリソグラフィー技術であるフォトリソグラフィーにおける露光・現像工程を不要とし,大幅なプロセスの簡略化が図られる。さらに紫外線利用のフォトリソグラフィー以上に超微細な凹凸パターンの形成を可能とするものだった。その革新性は,世界を驚嘆させた。
Chouらによる提唱から10余年にすぎない今日,すでにナノインプリント装置も発売され,多くの関連新技術も次々と提案され,技術開発は全世界的な動きとなっている。
　微細加工技術は日本企業が得意とするものであり,それを支える周辺産業も充実している。多くの研究機関,大学,企業の取組みも活発になっている。ナノインプリント産業が日本の基幹産業の一翼として,また日本ならではの先進技術として発展することが期待される。
　本書は,熱ナノインプリント,光ナノインプリント,およびマイクロコンタクトプリントなどの基幹技術に止まらず,そこから派生する数多くの提案技術にも注目し,関連特許公報の精査,解析により,ナノインプリント技術の発展の全貌を明らかにするとともに,今後の展望をみたものである。関連産業に携わる企業の方々,研究に関わる方々,これらの技術に注目されている方々に本書のご一読をお勧めする。

【目次】
第1編 ナノインプリントの技術と展開　　　
1章　ナノインプリントの開発
1　微細凹凸パターン形成方法
(1)型転写法
[1]射出成形法
[2]プレス成形法
[3]注型成形法
(2)フォトリソグラフィ
2　ナノインプリントの開発と技術
(1)熱ナノインプリント
(2)光ナノインプリント
(3)ソフトリソグラフィ
3　ナノインプリント技術の分類と種類
4　ナノインプリントの応用
[1]IT,エレクトロニクス関連
1)記録媒体
2)半導体デバイス
3)光・光デバイス　
4)電子ディスプレイ
[2]バイオ,ライフサイエンス関連
[3]環境,エネルギー関連
5　ナノインプリントの関連文献

第2編　ナノインプリントの特許動向の概要　
2章　特許動向の解析と概要
1　関連特許の調査解析対象
(1)調査解析の対象
(2)関連用語
2　特許動向の概要
(1)ナノインプリント特許の分類別件数推移
(2)ナノインプリント特許の分類別件数構成比
3　主要特許とパテントファミリー

第3編　ナノインプリントの技術と特許動向
3章　熱ナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
[1]転写方法
1)プレス方法
2)加熱,冷却条件
3)転写層のプレス加工
[2]離型方法
(2)転写材料
[1]樹脂
[2]添加剤
[3]物性
[4]複層転写層
(3)モールド
[1]形状
1)凹凸形状
2)湾曲モールド
3)円筒状モールド
[2]特性
[3]被覆層
[4]複層構造
[5]作成方法
1)成膜・離型
(a)注型成形
(b)乾式成膜
(c)湿式成膜
2)エッチング加工
3)直接加工
(4)離型剤
1)有機系
2)無機系
(5)転写装置
[1]複数のモールド,基板
[2]プレス装置
1)圧縮緩衝装置
2)プレス条件の設定
[3]加熱・冷却装置
1)加熱装置
2)冷却装置
[4]モールド・基板支持部材
1)モールド支持部材
2)基材支持部材
3)モールド,基材支持部材
[5]周辺制御装置・機構
1)位置制御
2)傾き制御
3)駆動制御
(6)応用
[1]IT,エレクトロニクス関連
1)記録媒体
(a)磁気記録媒体
(b)光記録媒体
(c)磁気・光記体
2)光デバイス
3)電子ディスプレイ
(a)LCD
(b)EL
(c)FED
4)光デバイス
(a)発光素子
(b)照明装置
(c)フォトニック液晶
(d)偏向子
(e)遮光フィルム
5)その他
(a)インクジェットヘッド
(b)導電性回路
(c)異方性導電層
[2]バイオ,ライフサイエンス関連
1)マイクロ化学・バイオチップ
(a)マイクロ流路システム
(b)マイクロアレイチップ
2)化学・バイオセンサ
3)医療機器・機材
[3]環境,エネルギー関連

4章　光ナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
[1]転写方法
[2]転写材料の塗布
1)塗布方法
2)塗布領域の制御
3)塗布後の処置
[3]プレス方法
1)ソフトプレス
2)加振プレス
3)光照射方法
(2)転写材料
[1]転写材料
1)ラジカル重合タイプ
2)カチオン重合タイプ
3)ラジカル重合またはイオン重合タイプ
(a)(メタ)アクリレート系
(b)エポキシ系
(c)環化重合系
[2]添加剤
[3]材料特性
[4]転写層上の機能層
(3)モールド
[1]形状
1)凹凸形状
2)全体形状
3)非平板モールド
[2]材料
[3]被覆層
[4]複層構造
[5]補助構造
[6]作成方法
1)無機系モールド　
2)樹脂系モールド
[7]周辺部材
(4)転写装置
[1]転写材料の塗布装置
[2]位置決め装置,機構
[3]光照射装置
(5)転写後の処理
(6)応用
[1]IT,エレクトロニクス関連
1)記録媒体
(a)磁気記録媒体
(b)光記録媒体
2)半導体デバイス
3)電子ディスプレイ
4)光デバイス

5章　超音波支援型熱ナノインプリント
1　概要
2　特許展開

6章　電磁波支援型熱ナノインプリント
1　概要
2特許展開

7章　常温ナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写装置
(3)応用

8章　溶媒補助型ナノインプリント
1　概要
2　特許展開

9章　加圧気体浸透型ナノインプリント
1　概要
2　特許展開

10章　近接場光型光ナノインプリント
1　概要
2　特許展開

11章　定温ナノインプリント
1　概要
2　特許展開

12章　フォトリソグラフィ複合型光ナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
(4)応用

13章　ドライフィルムレジスト型ナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)応用

14章　軟化剤除去型ナノインプリント
1　概要
2　特許展開

15章　モールド分解型ナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)モールド

16章　フレキシブルナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)応用

17章　高温焼成型ゾルゲルナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写材料
(2)モールド
(3)応用
[1]IT,エレクトロニクス関連
[2]環境,エネルギー関連

18章　室温ナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)転写装置
(4)応用
[1]IT,エレクトロニクス関連
1)記録媒体
2)電子ディスプレイ部品
[2]バイオ,ライフサイエンス関連

19章　光硬質型室温ナノインプリント
1　概要
2　特許展開

20章　乾燥膜刻印型ナノインプリント
1　概要
2　特許展開

21章　樹脂溶出型リソグラフィ
1　概要
2　特許展開

22章　キャビティ内重合型リソグラフィ
1　概要
2　特許展開

23章　硬質モールド型毛細管マイクロモールド(硬質型MIMIC)
1　概要
2　特許展開

24章　硬質モールド型毛細管力リソグラフィ(硬質M型CFL)
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)モールド

25章　ギャップ充填型毛細管力リソグラフィ
1　概要
2　特許展開

26章　リバーサルナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)応用

27章　ナノキャスティング
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド

28章　液状転写層型ナノキャスティング
1　概要
2　特許展開

29章　硬質モールド型マイクロコンタクトプリント(硬質M型μCP)
1　概要
2　特許展開

30章　カソードトランスファー
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料

31章　無機薄膜型リバーサルナノインプリント
1　概要
2　特許展開

32章　コールドウェルディングリソグラフィ
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)応用

33章　堆積型リソグラフィ
1　概要
2　特許展開

34章　静電引力型リソグラフィ
1　概要
2　特許展開

35章　Aレジストナノインプリント/共通
1　特許展開
(1)転写技術
[1]プレス方法
1)流体圧力プレス
2)磁力プレス
3)慣性圧力プレス　
4)超音波振動プレス
[2]モールドの圧入構造
[3]モールド,基板の組合わせ
1)複数種のモールド
[4]離型方法
(2)転写材料
[1]転写材料
[2]転写層
1)形状
2)複層構造
3)転写層の加工処理
(3)モールド
[1]材料
[2]形状
1)凹凸形状
2)表面粗さ
3)断面形状
4)凹凸領域の周辺形状
5)多版型モールド
[3]被覆層
[4]複層構造
[5]補助構造体
[6]作成方法
1)モールド原盤利用
(a)インプリント単独
(b)後工程/エッチング
(c)後工程/めっき成膜
(d)後工程/その他
2)モールド原盤非利用
(a)電子線リソグラフィ
(b)その他リソグラフィ
(c)関連技術
3)非レジストリソグラフィ
(a)陽極酸化
[7]修復,クリーニング
1)修復
2)切断加工
3)クリーニング
(4)離型剤
[1]有機系
[2]無機系
(5)転写装置
[1]転写材料関連
1)転写材料の供給　
2)転写材料の充填,検査
3)パターン層の検査
[2]モールド関連
1)形状の検査,計測
2)モールド支持
3)位置合わせ(平行調整)
4)位置合わせ(距離調整)
5)モールドの傾き計測
6)プレス
[3]基板支持関連
1)支持部材
[4]圧力環境
[5]離型関連
[6]その他
1)エネルギー供給　
2)関連工程の組み合わせ
(6)離型後の処理
1)変性処理
2)凸部の加工,補修
(7)応用
[1]IT,エレクトロニクス関連
1)記録媒体
(a)磁気記録媒体
(b)光記録媒体
2)半導体デバイス
(a)半導体デバイス
(b)電界効果トランジスタ
(c)薄膜トランジスタ
(d)メモリ素子・装置
3)電子ディスプレイ
(a)LCD
(b)EL
(c)電気泳動表示装置
(d)プラズマディスプレイ
4)光・光学デバイス
(a)半導体発光素子
(b)光導波路
(c)フォトニック液晶
(d)偏光素子
(e)位相差・波長素子
(f)回折素子
5)その他
(a)インクジェットヘッド
(b)物理センサ
(c)露光用マスク
[2]バイオ,ライフサイエンス関連
1)マイクロ化学・バイオチップ
(a)マイクロ流路システム
(b)マイクロアレイチップ
2)化学・バイオセンサ
(a)化学センサ
(b)バイオセンサ
(c)化学またはバイオセンサ
3)医療機器等
(a)マイクロニードル
[3]環境,エネルギー関連
1)燃料電池
[4]その他
1)配線基板
2)多孔質構造体

36章　直接ナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
(4)応用
[1]　汎用微細構造体
1)多孔性陽極酸化膜
[2]IT,エレクトロニクス関連
1)記録媒体
2)電子デバイス
3)電子ディスプレイ部品
4)光部品
[3]バイオ,ライフサイエンス関連

37章　加熱型直接ナノインプリント
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
(4)転写装置
(5)応用
[1]汎用微細構造体
[2]IT,エレクトロニクス関連
1)記録媒体
2)電子ディスプレイ部品
3)光通信部品

38章　静電引力型直接ナノインプリント
1　概要
2　特許展開

39章　AレジストナノインプリントとB直接ナノインプリント/共通
1　特許展開
(1)転写技術　
(2)モールド
[1]材料　
[2]形状
[3]複層構造
[4]表面特性
[5]製造方法
[6]補修,洗浄
(3)転写装置
(4)応用
[1]汎用微細構造体
[2]IT,エレクトロニクス関連
1)記録媒体
[3]環境・エネルギー関連

40章　マイクロコンタクトプリント(μCP)
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
[1]材料
[2]形状,構造
1)凸部形状
2)面形状
3)構造
[3]表面処理・加工
[4]作成方法
(4)転写装置
(5)応用
[1]IT,エレクトロニクス関連
1)記録媒体
(a)光記録媒体
2)半導体デバイス
(a)半導体デバイス
(b)有機半導体デバイス
(c)有機電界効果トランジスタ
(d)有機薄膜トランジスタ
3)電子ディスプレイ
(a)LCD
(b)有機EL
4)光デバイス
(a)発光素子
5)その他
(a)インクジェットヘッド　
(b)圧電素子　
(c)マイクロレンズアレイ
(d)コンタクトレンズ
(e)ナノワイヤ
(f)導電パターン　
(g)隔壁
[2]バイオ,ライフサイエンス関連
1)マイクロ化学・バイオチップ
(a)マイクロ流路システム
(b)マイクロ化学チップ
2)化学・バイオセンサ
(a)化学センサ
(b)バイオセンサ
3)医療用部材
[3]環境・エネルギー関連
1)燃料電池　
2)太陽電池
[4]その他
1)電極パターン
(a)直接形成・加工
(b)マスク材利用
2)撥液性,親液性パターン

41章　マイクロトランスファーモールド
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術　
(2)応用

42章　ナノトランスファープリント(μTM)
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)応用

43章　ガス圧支援型マイクロコンタクトプリント
1　概要
2　特許展開

44章　毛細管マイクロモールド
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)モールド
(3)応用
[1]IT,エレクトロニクス関連
[2]バイオ,ライフサイエンス関連
[3]その他

45章　溶媒促進マイクロモールド

46章　毛細管力ソグラフィ
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)応用

47章　エッジトランスファーリソグラフィ
1　概要
2　特許展開

48章　加圧充填型ソフトリソグラフィ

49章　レプリカモールド
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)応用
[1]IT,エレクトロニクス関連
[2]バイオ,ミカルス関連

50章　リキッドエンボス
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)応用
[1]汎用微細構造体
[2]IT,エレクトロニクス関連

51章　リフトアップリソグラフィ
1　概要
2　特許展開

52章　ディーカルトランスファーリソグラフィ
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)応用

53章　フォトリソグラフィ複合型ソフトリソグラフィ
1　概要
2　特許展開

54章　近接場位相シフトリソグラフィ
1　概要
2　特許展開

55章　表面改質型ソフトリソグラフィ
1　概要
2　特許展開

56章　Cソフトリソグラフィ/共通
1　特許展開
(1)転写技術
(2)モールド
[1]材料
[2]形状,構造
[3]作成方法
[4]補助部材
(3)応用
[1]汎用微細構造体
[2]IT,エレクトロニクス関連
1)半導体デバイス
(a)有機電界効果トランジスタ
(b)有機薄膜トランジスタ
2)光デバイス
3)電子ディスプレイ
[2]バイオ,ライフサイエンス関連
1)マイクロ化学・バイオチップ
(a)マイクロ流路システム
(b)マイクロアレイチップ
2)化学・バイオセンサ
3)医療機器・機材
[3]環境,エネルギー関連

57章　AレジストナノインプリントとCソフトリソグラフィ/共通
1　特許展開
(1)転写材料
(2)モールド
(3)転写装置
(4)応用
[1]汎用微細構造体
[2]IT,エレクトロニクス関連
1)記録媒体
2)電子デバイス
3)光デバイス
4)電子ディスプレイ
[3]バイオ,ケミカルス関連
1)マイクロバイオ・化学チップ
(a)マイクロ流路システム
(b)バイオチップ
[4]環境・エネルギー関連

58章 化学的変性型リソグラフィ
1概要
2特許展開

59章 ナノ電極リソグラフィ
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
(4)転写装置
(5)応用

60章　帯電リソグラフィ
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術　
(2)モールド
(3)応用

61章　磁性変性型リソグラフィ
1　概要
2　特許展開

62章　結晶性変性型リソグラフィ
1　概要
2　特許展開

63章　加圧相変性型リソグラフィ
1　概要
2　特許展開

64章　プラズマエッチング型リソグラフィ
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術

65章　光触媒リソグラフィ
1　概要
2　特許展開
(1)転写技術
(2)応用

66章　燃焼除去型リソグラフィ
1　概要
2　特許展開

67章　昇華除去型リソグラフィ
1　概要
2　特許展開

第4編　主要企業の特許展開　　　
68章　主要企業の特許展開
[1]セイコーエプソン
[2]キヤノン
[3]東芝
[4]TDK
[5]リコー
[6]富士フイルム
[7]凸版印刷
[8]フィリップス
[9]富士ゼロックス
[10]パナソニック

69章　大学研究者の出願動向
第5編 関連特許公報一覧　　　　

70章　関連特許公報一覧
[1]調査解析テーマと対象範囲と対象期間
[2]関連特許公報一覧の作表基準
[3]年別公開・公表・再公表特許公報一覧
[4]年別公開特許-特許番号対照
[5]特許番号-公開・公表・再公表特許対照